EUV光刻机瓶颈待破

业界预测，High-NAEUV将面向2纳米乃至埃米级工艺节点，是在未来10-20年成为半导体晶圆制造的顶尖工艺支撑设备之一。光刻机作为集成电路生产中不可或缺的重要设备之一，一直以来都决定了先进制程的发展速度，而阿斯麦(ASML)是欧洲最大的技术公司，主导着光刻市场。